基鹽：基鹽在氮化爐中熔化構成高氰酸根（CNO－）的氮化鹽浴。基鹽除了首次開端出產時熔化裝滿氮化爐之外，在正常出產中浴面降低時，也應參加基鹽以進步浴面。
調整鹽：在出產過程中當氮化鹽浴的氰酸根降低時，應向氮化爐補加調整鹽，以使氰酸根含量維持在規則的規模之內。
氧化鹽：氧化鹽用于氧化鹽浴，浴面降低時直接補加氧化鹽。

QPQ茶山熱處理后的工件滲層：

在QPQ茶山熱處理過程中預熱和氧化兩道工序只能構成氧化膜，在氮化工序構成較深的雜亂滲層。工件浸入氮化鹽浴后，氰酸根分解發生的N、C原子可在工件表面構成高的N勢和C勢。由于N原子半徑僅為Fe原子半徑的一半，而C原子的半徑更小，所以N、C原子能夠在Fe原子的點陣空隙中進行分散。

在QPQ茶山熱處理氮化溫度（510-580℃）下，工件表面的高濃度N、C原子向內部分散，先構成在α-Fe中的固溶體。跟著表面原子濃度的進步，逐漸構成γ′（Fe4N）化合物和ε（Fe2-3N）化合物。由工件表面向基地構成N、C的濃度梯度。滲層安排為化合物層ε相、ε相+γ′相、γ′相，化合物層以下是N在α-Fe中的固溶體，構成分散層。

QPQ茶山熱處理后的工件滲層安排由三層構成：表面為氧化膜；中間為化合物層；向內為分散層。其間以化合物層最為首要，其首要組變成Fe2-3N，它是進步耐磨性的可靠保證，一起它的抗蝕性也極好。茶山熱處理氧化膜的首要效果是與化合物一起構成極好的抗蝕層。一起它處于多孔狀況，能夠儲油，減少沖突，對進步耐磨性有利，一起還有美化外觀的效果。分散層首要效果是進步工件的疲勞強度，對添加細薄件的全體強度和彈性也有很大的效果。